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镀膜机价格_肇庆高品质磁控溅射卷绕镀膜设备批售， 肇庆市高要区恒誉真空技术有限公司坐落于肇庆市高要区金渡镇世纪大道交警中队西侧，于2012-07-23创办，自成立以来就致力于磁控溅射卷绕镀膜设备的生产与经营销售。公司拥有一大批可靠技术人才，充分满足广大中小企业对产品的需求，为客户供应市场上好的磁控溅射卷绕镀膜设备。

恒誉真空综合实力雄厚，技术水平高，售后服务完善。公司勤于市场发展需求，致力于打造磁控溅射卷绕镀膜设备生产、销售集成式服务，该产品用于镜片，镜头，饰品等表面镀膜，能起到增透、滤光、装饰等功效，因质量、生产工艺等方面言语，颇受中小企业欢迎，并且在全国极为好销售，产品种类、型号等可根据客户要求供应。

客户下单后希望您能根据以下情况操作，磁控溅射卷绕镀膜设备是销售于中小企业的设备，如果是由于您本身操作不当损坏，该情况不在我司售后服务范围里面，损坏产件如需要维修你也可以把产品寄到广东肇庆进行有偿维修。欢迎致电。

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磁控溅射是物理中气相沉积（Physical Vapor Deposition，PVD）的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，而上世纪 70 年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射，须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。

磁控溅射定义

在二极溅射中增加一个平行于靶表面的封闭磁场，借助于靶表面上形成的正交电磁场，把二次电子束缚在靶表面特定区域来增强电离效率，增加离子密度和能量，从而实现高速率溅射的过程。

磁控溅射原理

磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子；新电子飞向基片，Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜，而产生的二次电子会受到电场和磁场作用，产生E（电场）×B（磁场）所指的方向漂移，简称E×B漂移，其运动轨迹近似于一条摆线。若为环形磁场，则电子就以近似摆线形式在靶表面做圆周运动，它们的运动路径不仅很长，而且被束缚在靠近靶表面的等离子体区域内，并且在该区域中电离出大量的Ar 来轰击靶材，从而实现了高的沉积速率。随着碰撞次数的增加，二次电子的能量消耗殆尽，逐渐远离靶表面，并在电场E的作用下最终沉积在基片上。由于该电子的能量很低，传递给基片的能量很小，致使基片温升较低。磁控溅射是入射粒子和靶的碰撞过程。入射粒子在靶中经历复杂的散射过程，和靶原子碰撞，把部分动量传给靶原子，此靶原子又和其他靶原子碰撞，形成级联过程。在这种级联过程中某些表面附近的靶原子获得向外运动的足够动量，离开靶被溅射出来。

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