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全自动晶圆研磨机GDM300可进行晶圆减薄

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发布时间:2021-03-19

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全自动晶圆研磨机GDM300可进行晶圆减薄 ——又称晶圆抛光/晶圆背抛/Wafer Grinding 全自动晶圆研磨机GDM300晶圆减薄特长: ·采用全自动系统,从后磨到贴装的连续过程,可研磨至25um厚度。 ·2个磨头阶段,产量几乎是1个磨头系统的两倍。 ·内置修边系统可作为薄型晶圆加工的选择。 ·双指标体系,抛光阶段和研磨阶段完全分离,满足TSV和MEMS工艺所需的清洁。 ·超亮度小于Ra1A,可超镜面。 全自动晶圆研磨机GDM300可进行晶圆减薄相关产品: 衡鹏供应 OKAMOTO_GNX200BP晶圆研磨/晶圆减薄/晶圆抛光/晶圆背抛/Wafer Grinding

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