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镀膜机定制，恒誉真空供应直流磁控濺射镀膜设备， 能为广大客户服务是我司的荣幸，我司提供的直流磁控濺射镀膜设备在生产制造中，有专人监管，对每批产品进行严格把关，产品质量可靠。直流磁控濺射镀膜设备以中小企业为主要销售对象，有很好的口碑。恒誉真空同样将以更优的品质、更满意的服务、更合理的价格回馈广大客户。

肇庆市高要区恒誉真空技术有限公司是一家在机械和行业设备专用配件具有发展潜力的有限责任公司，公司立安思危，创优求存，以大型企业设备装配技术为依托，主要从事各式直流磁控濺射镀膜设备的生产、销售业务，销售范围遍布全国;广东各地，备受中小企业瞩目。严格质量过程控制，合同交货周期，是我司不变的执行标准。

一直以来，恒誉真空都走在行业前列，在服务上不断地顾客的需求，在生产上不断地市场的需求。在客户正式下订单后，直流磁控濺射镀膜设备可支持银行转账的方式支付货款，并且会在双方协商的时间时间内为中小企业派送，运费买卖双方协商，力求交易过程中有效、便利。我司必将不懈努力，专注于对产品质量的追求。

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平衡态磁控阴极内外磁钢的磁通量大致相等，两极磁力线闭合于靶面，很好地将电子/等离子体约束在靶面附近，增加碰撞几率，提高了离化效率，因而在较低的工作气压和电压下就能起辉并维持辉光放电，靶材利用率相对较高，但由于电子沿磁力线运动主要闭合于靶面，基片区域所受离子轰击较小.非平衡磁控溅射技术概念，即让磁控阴极外磁极磁通大于内磁极，两极磁力线在靶面不完全闭合，部分磁力线可沿靶的边缘延伸到基片区域，从而部分电子可以沿着磁力线扩展到基片，增加基片区域的等离子体密度和气体电离率.不管平衡非平衡，若磁铁静止，其磁场特性决定一般靶材利用率小于30%。为增大靶材利用率，可采用旋转磁场。但旋转磁场需要旋转机构，同时溅射速率要减小。

旋转磁场多用于大型或贵重靶。如半导体膜溅射。对于小型设备和一般工业设备，多用磁场静止靶源。用磁控靶源溅射金属和合金很容易，点火和溅射很方便。这是因为靶（阴极），等离子体，和被溅零件/真空腔体可形成回路。但若溅射绝缘体如陶瓷则回路断了。于是人们采用高频电源，回路中加入很强的电容。这样在绝缘回路中靶材成了一个电容。但高频磁控溅射电源昂贵，溅射速率很小，同时接地技术很复杂，因而难大规模采用。为解决此问题，发明了磁控反应溅射。就是用金属靶，加入氩气和反应气体如氮气或氧气。当金属靶材撞向零件时由于能量转化，与反应气体化合生成氮化物或氧化物。磁控反应溅射绝缘体看似容易，而实际操作困难。

主要问题是反应不光发生在零件表面，也发生在阳极，真空腔体表面，以及靶源表面。从而引起灭火，靶源和工件表面起弧等。德国莱宝发明的孪生靶源技术，很好的解决了这个问题。其原理是一对靶源互相为阴阳极，从而消除阳极表面氧化或氮化。冷却是源（磁控，多弧，离子）所必需，因为能量很大一部分转为热量，若无冷却或冷却不足，这种热量将使靶源温度达一千度以上从而溶化整个靶源。

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