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多弧机，好用的磁控溅射卷绕镀膜设备恒誉真空供应， 恒誉真空以有效生产磁控溅射卷绕镀膜设备为主营方向，产品很好的诠释其镜片，镜头，饰品等表面镀膜，能起到增透、滤光、装饰等功效的用途，主要销售往全国等地区。依靠完善、机制健全、不断强化的服务理念，为了方便广大中小企业，我司尽心尽力提供完善的售后服务，也因此受到需求客户一致的好评与赞誉。

恒誉真空秉承“精益求精、自主创新”的精神，不仅在磁控溅射卷绕镀膜设备的生产及销售领域走自主创新之路，在服务方面更是不懈追求有品质。磁控溅射卷绕镀膜设备一直采用批发;零售;的方式出售，公司全心为客户服务，产品在销售后都可提供产品售出后质保一年的售后服务，免除中小企业选购本司产品的后顾之忧。

肇庆市高要区恒誉真空技术有限公司成立于2012-07-23，是一家可靠从事磁控溅射卷绕镀膜设备经营销售的有限责任公司。集研发、生产、销售、服务于一体。产品应用领域广泛，在机械和行业设备专用配件行业领域占有的市场，获得了众多用户的好评。严格质量过程控制，合同交货周期，至今已创下良好的信誉及口碑，以技术过硬、服务周到而享誉全国。

多弧机，

磁控溅射是物理中气相沉积（Physical Vapor Deposition，PVD）的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，而上世纪 70 年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射，须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。

磁控溅射定义

在二极溅射中增加一个平行于靶表面的封闭磁场，借助于靶表面上形成的正交电磁场，把二次电子束缚在靶表面特定区域来增强电离效率，增加离子密度和能量，从而实现高速率溅射的过程。

磁控溅射原理

磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子；新电子飞向基片，Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜，而产生的二次电子会受到电场和磁场作用，产生E（电场）×B（磁场）所指的方向漂移，简称E×B漂移，其运动轨迹近似于一条摆线。若为环形磁场，则电子就以近似摆线形式在靶表面做圆周运动，它们的运动路径不仅很长，而且被束缚在靠近靶表面的等离子体区域内，并且在该区域中电离出大量的Ar 来轰击靶材，从而实现了高的沉积速率。随着碰撞次数的增加，二次电子的能量消耗殆尽，逐渐远离靶表面，并在电场E的作用下最终沉积在基片上。由于该电子的能量很低，传递给基片的能量很小，致使基片温升较低。磁控溅射是入射粒子和靶的碰撞过程。入射粒子在靶中经历复杂的散射过程，和靶原子碰撞，把部分动量传给靶原子，此靶原子又和其他靶原子碰撞，形成级联过程。在这种级联过程中某些表面附近的靶原子获得向外运动的足够动量，离开靶被溅射出来。

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