产品库

真空镀膜机|哪里能买到物超所值的直流磁控濺射镀膜设备， 恒誉真空拥有高素质技术人员，以及强大的销售团队。以企业综合实力为基础，建立现代化率机制，不断加强企业管理，提高经营效益生产直流磁控濺射镀膜设备，产品质量保证，经久耐用，具有通过磁控溅射的方法能在工件表面镀制各种金属，或其化合物膜层，以达到改变其光电磁性能或起到装饰性功效的用途。我司树立“好服务是生命，企业满意是目的”的服务原则，在全国;广东深受广大中小企业的认可与好评。

真空镀膜机，

磁控溅射

磁控溅射是物理中气相沉积（Physical Vapor Deposition，PVD）的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，而上世纪 70 年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射，须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。

磁控溅射定义

在二极溅射中增加一个平行于靶表面的封闭磁场，借助于靶表面上形成的正交电磁场，把二次电子束缚在靶表面特定区域来增强电离效率，增加离子密度和能量，从而实现高速率溅射的过程。

磁控溅射原理

磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子；新电子飞向基片，Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜，而产生的二次电子会受到电场和磁场作用，产生E（电场）×B（磁场）所指的方向漂移，简称E×B漂移，其运动轨迹近似于一条摆线。若为环形磁场，则电子就以近似摆线形式在靶表面做圆周运动，它们的运动路径不仅很长，而且被束缚在靠近靶表面的等离子体区域内，并且在该区域中电离出大量的Ar 来轰击靶材，从而实现了高的沉积速率。

随着碰撞次数的增加，二次电子的能量消耗殆尽，逐渐远离靶表面，并在电场E的作用下最终沉积在基片上。由于该电子的能量很低，传递给基片的能量很小，致使基片温升较低。磁控溅射是入射粒子和靶的碰撞过程。入射粒子在靶中经历复杂的散射过程，和靶原子碰撞，把部分动量传给靶原子，此靶原子又和其他靶原子碰撞，形成级联过程。在这种级联过程中某些表面附近的靶原子获得向外运动的足够动量，离开靶被溅射出来。

磁控溅射种类

磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点：利用磁场与电场交互作用，使电子在靶表面附近成螺旋状运行，从而增大电子撞击氩气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。

靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源镀膜均匀，非平衡式靶源镀膜膜层和基体结合力强。平衡靶源多用于半导体光学膜，非平衡多用于磨损装饰膜。磁控阴极按照磁场位形分布不同，大致可分为平衡态和非平衡磁控阴极。

由我公司自主生产的直流磁控濺射镀膜设备，是经机械和行业设备专用配件行业专家鉴定后评定为的产品，享誉业界。我们坚持公司内部建立的任何组织，流程，制度都建立在为客户提供更良好的服务的基础上，为了让客户能够快速的收到货物，我们采取的是陆运;公路运输的物流方式进行配送，在全国;广东拥有众多客户。

肇庆市高要区恒誉真空技术有限公司拥有一支经验丰富、实力过硬的生产销售队伍，专注于直流磁控濺射镀膜设备的生产和研发，自成立以来，始终把客户的利益放在靠前，不断引进吸收国内外同行的设计理念和制造技术，在机械和行业设备专用配件行业中成绩显著，并积极为客户开发低成本，高生产效率，满足客户需要的新产品。公司立志为广大中小企业提供优异的直流磁控濺射镀膜设备产品，始终坚持诚信和互惠原则，坚持用真诚的服务去打动客户。

真空镀膜机|哪里能买到物超所值的直流磁控濺射镀膜设备， 在高速高精时代大环境下，恒誉真空以客户为中心，以市场为导向，依法合规开展经营活动。公司将一如既往的供应有品质、高精度、有效能的直流磁控濺射镀膜设备，以满足中小企业需求，不断为广大客户提供好的产品服务，立志成为机械和行业设备专用配件业界的企业。公司地址：肇庆市高要区金渡镇世纪大道交警中队西侧，欢迎您对我们提出建议或意见。

如果您对我们的肇庆恒誉，镜片镀膜机，真空镀膜机，感兴趣，可随时拨打肇庆市高要区恒誉真空技术有限公司联系热线详细了解