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金属镀膜机_选购高质量的蒸发式卷绕镀膜设备就选恒誉真空， 恒誉真空为了保障蒸发式卷绕镀膜设备品质的可靠和稳定，维护产品口碑，恒誉真空严格按照国际质量管理体系认证进行生产，并以严格的产品质量管理模式推行科学管理。我司的蒸发式卷绕镀膜设备在市场上的占有率正稳步提高，我们生产的产品具有镀膜加工的用途，在全国;广东、肇庆受到一致支持与认可。

客户下单后希望您能根据以下情况操作，蒸发式卷绕镀膜设备是销售于需求群体的设备，如果是由于您本身操作不当损坏，该情况不在我司售后服务范围里面，损坏产件如需要维修你也可以把产品寄到广东肇庆进行有偿维修。欢迎致电。

肇庆市高要区恒誉真空技术有限公司拥有一支经验丰富、实力过硬的生产销售队伍，专注于蒸发式卷绕镀膜设备的生产和研发，自成立以来，始终把客户的利益放在靠前，不断引进吸收国内外同行的设计理念和制造技术，在机械和行业设备专用配件行业中成绩显著，并积极为客户开发低成本，高生产效率，满足客户需要的新产品。公司立志为广大需求群体提供优异的蒸发式卷绕镀膜设备产品，始终坚持诚信和互惠原则，坚持用真诚的服务去打动客户。

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平衡态磁控阴极内外磁钢的磁通量大致相等，两极磁力线闭合于靶面，很好地将电子/等离子体约束在靶面附近，增加碰撞几率，提高了离化效率，因而在较低的工作气压和电压下就能起辉并维持辉光放电，靶材利用率相对较高，但由于电子沿磁力线运动主要闭合于靶面，基片区域所受离子轰击较小.非平衡磁控溅射技术概念，即让磁控阴极外磁极磁通大于内磁极，两极磁力线在靶面不完全闭合，部分磁力线可沿靶的边缘延伸到基片区域，从而部分电子可以沿着磁力线扩展到基片，增加基片区域的等离子体密度和气体电离率.不管平衡非平衡，若磁铁静止，其磁场特性决定一般靶材利用率小于30%。为增大靶材利用率，可采用旋转磁场。但旋转磁场需要旋转机构，同时溅射速率要减小。

旋转磁场多用于大型或贵重靶。如半导体膜溅射。对于小型设备和一般工业设备，多用磁场静止靶源。用磁控靶源溅射金属和合金很容易，点火和溅射很方便。这是因为靶（阴极），等离子体，和被溅零件/真空腔体可形成回路。但若溅射绝缘体如陶瓷则回路断了。于是人们采用高频电源，回路中加入很强的电容。这样在绝缘回路中靶材成了一个电容。但高频磁控溅射电源昂贵，溅射速率很小，同时接地技术很复杂，因而难大规模采用。为解决此问题，发明了磁控反应溅射。就是用金属靶，加入氩气和反应气体如氮气或氧气。当金属靶材撞向零件时由于能量转化，与反应气体化合生成氮化物或氧化物。磁控反应溅射绝缘体看似容易，而实际操作困难。

主要问题是反应不光发生在零件表面，也发生在阳极，真空腔体表面，以及靶源表面。从而引起灭火，靶源和工件表面起弧等。德国莱宝发明的孪生靶源技术，很好的解决了这个问题。其原理是一对靶源互相为阴阳极，从而消除阳极表面氧化或氮化。冷却是源（磁控，多弧，离子）所必需，因为能量很大一部分转为热量，若无冷却或冷却不足，这种热量将使靶源温度达一千度以上从而溶化整个靶源。

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