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等离子光氧除臭UV小型涂装生产厂家，用途 光氧净化设备主要用作于食品、医药、化工、污水、垃圾、塑胶、喷涂、造纸、轮胎等生产环节挥发或渗漏出有害废气的净化及臭味的消除。 原理 应用于工业废气治理中的紫外线波长为154nm-254nm，波长越短能量越大。在这个波长区域中，由于154nm-185nm的波长相对比较短所以“杀伤”的空间范围也较小。而185nm-254nm尽管波长较长但是杀伤空间范围相对较大。 废气的光解氧化机理包括两个过程： 1.在产生高能离子群体的过程中，有害气体分子受高能作用，本身分解成单质或转化为没有危害的物质。 2.含有大量高能粒子和高活性的自由基的离子群体，与大分子气体（如苯、等）作用，打开了其分子内部的化学键，转化为小分子物质。新生态的氧离子具有很强的氧化性，它能有效的氧化分解不受负离子作用控制的有机物。和废气反应后多余的氧离子（正），能与氧离子（负）很快结合成中性氧，因而不会更多地对设备及环境造成不利影响。 3，恶臭物质能否被裂解，取决于其化学键键能是否比所提供的UV 光子的能量要低。 4.裂解时间是否足够1S，氧化反应的时间是否达到5-8S； 5，.提供的 UV 光子总功率不够或者含氧量不足，会因为裂解或氧化不完全而生成一些中间副产物，从而影响净化效率。对于高浓度大分子的有机恶臭物质体现得较为明显。 6.UV 光解净化的长期稳定，需要反应温度＜60℃，粉尘量＜100mg/m 3 ，相对湿度＜97%。 7.废气物质中若某种特殊化学元素的含有量过高 （如 Cl、 F 等） ，也会导致强化剂臭氧的生成量大大降低，影响总体的净化效果。

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