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南京迪史洁雪花清洁系统-新工艺推荐清洁水印行业推荐

迪史洁（上海）清洗设备有限公司创立伊始，规模逐步发展壮大，凭着过硬的生产技术、丰富的管理经验，好的客户服务和良好的企业信誉，在清洗清理设备行业不断进步。在短时间内完成了企业创建、、发展的过程，迪史洁雪花清洁系统市场广阔，产品已经销售到全国。

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无论是汽车或供应商行业、精密或微工程、医疗技术、工业机器人、电子或其他工业部门，当前的趋势都在改变对零件清理的要求。这也包括越来越多的更小更复杂的零件和部件。更短的产品生命周期，更低的产品体积，直到单个零件的制造，新材料和材料组合的使用，例如用于轻型工程应用，以及新的或改进的生产过程。为雪花清洗设计的电动、自动驾驶和制造环境是影响零件清理的进一步发展。有些情况下，材料组合或表面结构不适合湿化学清洗，或者只有某些部件区域需要特定的清洁度，如粘合、焊接或密封表面，或者在组装好的部件上执行清洗步骤。

雪花清洗电动汽车、轻型工程、雪花清洗小型化和工业生产4.1等趋势给工业生产零件清理领域带来了新的挑战。通过其雪花清洗系统，GDS提供了一种能够可靠、可重复且经济地执行各种清理任务的解决方案。此外，干燥、无残留和环境中性的清理技术可以适应个人要求，相对高度紧凑，易于自动化技术，易于集成到生产线、CO2雪花清洗系统工业生产4.1制造系统和洁净室中。

迪史洁干冰雪花清洗已在航空航天、汽车电子、医疗和其他行业得到应用。当使用迪史洁干冰雪花时，你会想把安全措施放在适当的位置。

迪史洁干冰雪花清洗去除的一些污染物包括制造残留雪花清洗、雪花清洗灰尘、雪花清洗指纹、雪花清洗脱模剂、雪花清洗水印和其他轻质油，所有这些都会影响油漆质量。

更多CO2雪花技术咨询，产品和服务将陆续发布。

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雪和压缩空气的喷射温度为零下78.5摄氏度，可以聚焦在需要的地方。当它撞击要清洁的表面时，会发生热、机械、升华和溶剂效应的组合。这四种清洁机制使雪花清洗系统能够清除薄膜污染物，如冷却润滑剂、加工油、抛光膏、分离剂和硅的残留物，以及微粒污染物，如碎片、灰尘和磨损。由于清洁步骤使用不可燃、无腐蚀性和的雪花清洗雪对材料也很温和，即使是精细结构的表面也可以处理。

雪晶有效的主要原因是a雪花清洗清洁头，它配备了一个超音速双组分环形喷嘴。液态二氧化碳在离开喷嘴时膨胀，形成雪和气体的混合物，形成核心射流。压缩空气也作为夹套射流被送入喷嘴，这加速了一氧化碳2雪晶达到超音速。压缩空气的加速比单组分喷嘴系统的清洁效率高得多，也大大降低了二氧化碳的消耗。

二氧化碳雪清洗可以去除玻璃上的污渍。这包括溶剂污渍，水渍，甚至夏普标记。该程序依赖于冷冻断裂模式，并不总是快速的。在清洁之前和清洁过程中，输入适当的热量，因为玻璃会立即冻结。下面是一张硅晶片的图片，上面有沙皮的脸，经过二氧化碳雪清洗后，只有两张。溶剂渍更容易，水斑不一致。

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价位合理的迪史洁雪花清洁系统_清洁测试雪花清洗光学玻璃清洁提供测试服务

光学玻璃清洁

氢氧化钠10~30

碳酸钠20~50

羧甲基纤维素3~10

有机硅类消泡剂0~5

去离子水余量

脂肪醇聚氧乙烯醚50~

络合剂10~30

渗透剂30~80

去离子水余量

表面活性剂可以选用脂肪醇聚氧乙烯醚或者、

渗透剂：jfc、磺化琥珀酸酯的钠盐

络合剂：edta、edta钠盐、胺类

光学玻璃镀膜前后清洗

光学玻璃

光学玻璃清洗剂光学玻璃镜片镀膜前后，镀膜后清洗一般分开清洗，镀膜前因为没有膜，可以用强碱性清洗剂清洗，不会伤到玻璃镜片就ok；镀膜后的膜一般清洗剂，可能会伤到，，可以镀膜前，镀膜后清洗都可以

迪史洁干冰雪花清洗设备供应的迪史洁雪花清洁系统质量可靠，您在购买过程中请仔细检查我们的参数是否与您要购买的参数一致。若达成交易，我们会在双方协商的时间内发货，并提供24小时在线咨询的售后服务。经济讲效益，管理讲制度，办事讲原则，工作讲效率，我司注重办事效率，致力于为客户提供兼顾及时性与准确性的好服务。

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压缩空气的空气动力带走分离的杂质，然后通过集成的抽吸单元将其抽出，以防止再次污染。因为一氧化碳2在大气压力下瞬间升华，在清洁过程结束时，部件变干，使它们能够被电离、或直接涂漆。干洗工艺的另一个优点是零件的设计自由度更大，因为流体可能被截留的几何形状不再是问题。

迪史洁干冰雪清洁技术是基于医疗雪花清洗、航空干冰雪清洗、CO2雪花半导体、牙科雪花清洗、原始设备制造、工业微电子雪花清洗、光纤、太阳能雪花清洗、珠宝和服装行业的精密清洗系统。

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CO2雪花清洗系统从金属、陶瓷、聚合物和玻璃中去除污染物

CO2雪花清洗系统硅、磷化铟和晶片上颗粒和污渍去除

CO2雪花清洗系统清洁光学器件，即镀膜透镜、激光、红外和紫外光学器件

CO2雪花清洗系统表面分析(俄歇、XPS、SIMS)和原子力显微镜前的样品制备

CO2雪花清洗系统清洁真空系统部件、波纹管、电子和离子光学器件

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